薄膜的激光损伤与薄膜的微缺陷密切相关。微缺陷是薄膜激光损伤的主要原因。绝大多数激光损伤始于薄膜的缺陷点，并逐渐向外发展。因此，在系统的高通量运行中，光学元件表面留下的杂质污染物会产生杂质缺陷或涂层后节瘤缺陷，从而导致玻璃或涂层表面的高抛光损伤，降低光学元件的损伤阀值。此外，光学元件表面残留的有机污染物不仅表面残留的有机污染物不仅能产生有机吸收和热镜片，降低损伤阀值，还能降低光学元件膜层的附着力。因此，有了神光-Ⅲ需要更高的通量，光学元件具有更高的激光损伤阀值，这就要求光学元件具有更高的清洁度。
因此，光学元件在加工过程中和涂涂层前进行清洁，以确保元件表面的高清洁度，并提高元件的抗激光损伤能力。为了确保清洁方法在实际加工中的有效性，并确保清洁方法对光学元件具有高效的清洁能力，而不破坏光学元件。近年来，国内外发展了许多新的清洁技术，如机械清洁技术、冰清洁技术、激光清洁技术、超声波和兆声波清洁技术，其中在光学元件清洁行业，超声波清洁技术作为一种高效、高清洁的清洁方法开始逐渐取代手动清洁。
超声波清洗应在特殊的超声波清洗机中进行。超声波清洗机的独特优点是，它就像一把精致的小刷子，穿刺力强，夹在手无法触及的小洞穴和角落区域的污垢中。在清洗液中，超声波振动形成的空化作用迅速松动脱落。超声波清洗是将工件悬挂在装有清洗液的清洗槽中，根据超声波换能器将超声波产生器发出的电信号转化为超声波振动，引入液体，使污渍在超声波作用下脱落，达到清洗的目的。
根据光学元件表面污染物的物理特性，污染物可分为有机物、复合物和无机物。
超声波清洗效果与清洗液的温度和浓度、清洗频率、超声波功率等工艺参数密切相关。超声波频率与待清洗污染物颗粒的大小直接相关：超声波频率越小，腐蚀气泡越多，清洗污染物颗粒越多，超声波频率越大，清洗污染物颗粒越小。
光学元件超声清洗规定去除超过1μm必须使用超过170种无机污染物颗粒KHZ只有当频率达到洁净度规定时。因此，选择频率为40、80、120、140、170、220、270KHz复频多槽(清洗槽、喷淋槽、浸洗槽、干燥槽)超声波清洗机清洗光学元件。
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